原子层沉积系统

PICOSUN?P-300B原子层沉积系统衬底尺寸和类型  

?200mm晶圆25片/批次（标准间距）  

?150mm晶圆50片/批次（标准间距）  

?100mm晶圆75片/批次（标准间距）  

?非标准晶圆类基底（使用定制夹具）  

?高深宽比基底（**大深宽比1:2500）  

工艺温度  

?50–500°C  

标准工艺  

?批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环*  

?Al2O3,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,TiO2,ZrO2,AlN,TiN以及各种金属  

?同一批次薄膜不均匀性<1%1σ  

(Al2O3,WIW,WTW,b2b商务,49pts,5mmEE)**  

基片加载  

?气动升降，手动装载  

?线性半自动装载  

前驱体  

?液态，固态，气态，臭氧源  

?源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务  

?4根独立的源管线，**多加载8个前驱体源  

http://www.shleiwei.com/Products-37268369.html  

https://www.chem17.com/st543966/product_37268369.html